
Odrůda LG Atelier navíc disponuje rezistencí proti pravému stéblolamu díky genu Pch1, velmi dobrou zimovzdorností a vysokou odolností proti poléhání. Přesto že byla tato odrůda registrována „pouze“ s kvalitní potravinářskou jakostí A, dosahuje nadstandardní kvality blíže kvalitě E.
Kvalitativní parametry odrůdy LG Atelier dosahují hodnot mnohých elitních odrůd, což prokázaly i výsledky v jednotlivých ročnících zkoušek na ÚKZÚZ. Za sebou má odrůda již pět zkušebních roků na ÚKZÚZ (tři roky registrační zkoušky + dva roky v rámci zkoušek pro SDO), ve kterých dosáhla ve dvou letech hraniční kvality mezi A a E a ve dalších třech letech čisté jakosti E ve všech parametrech.
Předností odrůdy je vysoký obsah NL, vysoká hodnota ZT, vysoká OH, vysoké ČP a výborné pekařské parametry.
Odrůda LG Atelier v sobě kombinuje jak vynikající potravinářskou kvalitu, tak i vysoký výnosový potenciál, který se potvrdil jak ve zkouškách ÚKZÚZ, tak výnosy v demonstračních pokusech, a především prvními výsledky na běžných plochách.
Velkou předností odrůdy LG Atelier je rezistence proti pravému stéblolamu díky genu Pch1. Také díky tomu je odrůda vhodná i pro setí po obilnině. Základem dobrého zdravotního stavu je vysoká odolnost proti rzi plevové a pšeničné a dobrá odolnost proti fuzariózám klasů. Jedná se o pozdní kompenzační odrůdu (asi o 6–7 dní pozdnější než LG Absalon) s vysokou odnoživostí, běžně dosahuje vyššího počtu stébel na úrovni 700–750 ks/m2. Je vhodná i pro setí s širší meziřádkovou vzdáleností (25–30 cm). Stéblo je středně dlouhé (95–100 cm) s dobrou odolností proti poléhání. Je vhodná do všech výrobních oblastí, přičemž nejlepších výsledků ve srovnání s ostatními odrůdami dosahuje v ŘVO a v BVO. (Pozn.: Do KVO jsou o něco vhodnější odrůdy Absolut nebo LG Absalon). Odrůda se dá pěstovat po obilnině i po kukuřici a zvládá pozdní setí.
Odrůda LG Atelier splňuje náročné požadavky pěstitelů na výnos a výbornou potravinářskou kvalitu (E/A). Disponuje rezistencí proti pravému stéblolamu díky genu Pch1, velmi dobrou zimovzdorností a velmi dobrou odolností proti poléhání. Toleruje pozdní setí a je vhodná pro setí po obilnině i kukuřici.*
Ing. Stanislav Doležal
Limagrain Česká republika, s. r. o.
Tab. 1 – LG Atelier potvrdil kvalitu E ve zkouškách SDO
| LG Atelier | OH(g/l) | NL(%) | ČP(s) | ZT(ml) | Energie těstaW (10-4J) | Poměr P/L |
|---|---|---|---|---|---|---|
| SDO ÚKZÚZ 2025 | 810 | 13,6 | 369 | 65 | 378 | 0,6 |
| Zařazení potravinářských parametrů podle ČSN | E | E | E | E | norma nestanovuje | |
| Zdroj: ÚKZÚZ SDO 2025, průměr hodnot 2021–2024; ČSN 46 1100-2 | ||||||
Tab. 2 – Vysoké výnosy odrůdy LG Atelier na běžných plochách v roce 2025
| Podnik | Okres | Výnos (t/ha) | Plocha (ha) |
|---|---|---|---|
| Těšetická zemědělská, a. s. | Olomouc | 10,20 | 21 |
| Zem. spol. SKALSKO s. r. o. | Mladá Boleslav | 10,12 | 55 |
| ZS Pobečví a. s. | Přerov | 9,93 | 50 |
| AGRODRUŽSTVO ROŠTĚNÍ, družstvo | Kroměříž | 9,83 | 48 |
| AGRO SLATINY a. s. | Jičín | 9,69 | 12 |
| Zemědělský podnik Kvasicko, a. s. | Kroměříž | 9,75 | 148 |
| ZOD Agro Dlouhá Loučka a. s. | Olomouc | 9,50 | 22 |
| ZP Hvězdlice, a. s. | Vyškov | 9,15 | 83 |
| ZEPO Bořitov, družstvo | Blansko | 8,90 | 14 |
| OAK Prostějov * | Prostějov | 8,66 | 112 |
| Zdroj: Běžné pěstební plochy v roce 2025; sklizňová plocha je zaokrouhlená na celé hektary; *vyhodnocení sklizně za okres Prostějov Okresní agrární komorou Prostějov a firmou Zetaspol | |||
Tab. 3 – Významné hospodářské vlastnosti odrůdy LG Atelier
| Padlí pšenice na listu | Komplex listových skvrnitostí | Rez pšeničná | Rez plevová | Poléhání před sklizní | Fuzariózy klasů | Délka rostlin (cm) | HTZ (g) | Rezistence vůči pravému stéblolamu Pch1 | Chlortoluron tolerance |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 7 | 5,5 | 7 | 7 | 7,5 | 7 | 95–100 | 44 | ano | ano |
| Pozn.: stupnice 9-1, 9 = odolná, 1 = náchylná | |||||||||

LG Atelier je pozdní odrůda s výbornou potravinářskou kvalitou na úrovni E pšenic. Je typická vysokou odnoživostí, vysokou odolností proti poléhání a disponuje rezistencí proti pravému stéblolamu (gen Pch1) (Foto archiv)